વર્ણન
અમારી કંપની ગ્રેફાઇટ, સિરામિક્સ અને અન્ય સામગ્રીની સપાટી પર CVD પદ્ધતિ દ્વારા SiC કોટિંગ પ્રક્રિયા સેવાઓ પૂરી પાડે છે, જેથી કાર્બન અને સિલિકોન ધરાવતાં વિશિષ્ટ વાયુઓ ઉચ્ચ તાપમાને પ્રતિક્રિયા કરીને ઉચ્ચ શુદ્ધતા SiC પરમાણુઓ, કોટેડ સામગ્રીની સપાટી પર જમા થયેલ અણુઓ, SIC રક્ષણાત્મક સ્તર બનાવે છે.
મુખ્ય લક્ષણો
1. ઉચ્ચ તાપમાન ઓક્સિડેશન પ્રતિકાર: જ્યારે તાપમાન 1600 C જેટલું ઊંચું હોય ત્યારે પણ ઓક્સિડેશન પ્રતિકાર ખૂબ જ સારો હોય છે.
2. ઉચ્ચ શુદ્ધતા : ઉચ્ચ તાપમાન ક્લોરીનેશનની સ્થિતિ હેઠળ રાસાયણિક વરાળના જથ્થા દ્વારા બનાવવામાં આવે છે.
3. ધોવાણ પ્રતિકાર: ઉચ્ચ કઠિનતા, કોમ્પેક્ટ સપાટી, દંડ કણો.
4. કાટ પ્રતિકાર: એસિડ, આલ્કલી, મીઠું અને કાર્બનિક રીએજન્ટ્સ.
CVD-SIC કોટિંગની મુખ્ય વિશિષ્ટતાઓ
| SiC-CVD ગુણધર્મો | ||
| ક્રિસ્ટલ સ્ટ્રક્ચર | FCC β તબક્કો | |
| ઘનતા | g/cm ³ | 3.21 |
| કઠિનતા | વિકર્સ કઠિનતા | 2500 |
| અનાજ કદ | μm | 2~10 |
| રાસાયણિક શુદ્ધતા | % | 99.99995 |
| ગરમી ક્ષમતા | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| સબલાઈમેશન તાપમાન | ℃ | 2700 |
| ફેલેક્સરલ સ્ટ્રેન્થ | MPa (RT 4-પોઇન્ટ) | 415 |
| યંગનું મોડ્યુલસ | Gpa (4pt બેન્ડ, 1300℃) | 430 |
| થર્મલ વિસ્તરણ (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| થર્મલ વાહકતા | (W/mK) | 300 |
