આરટીપીCVD SiC રિંગ્સઉચ્ચ તાપમાન અને કાટ લાગતા વાતાવરણમાં ઔદ્યોગિક અને વૈજ્ઞાનિક ક્ષેત્રોમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાય છે. તે સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદન, ઓપ્ટોઈલેક્ટ્રોનિક્સ, ચોકસાઇ મશીનરી અને રાસાયણિક ઉદ્યોગમાં મહત્વપૂર્ણ ભૂમિકા ભજવે છે. વિશિષ્ટ એપ્લિકેશનોમાં શામેલ છે:
1. સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદન:RTP CVD SiC રિંગ્સસેમિકન્ડક્ટર સાધનોને ગરમ કરવા અને ઠંડક આપવા, સ્થિર તાપમાન નિયંત્રણ પ્રદાન કરવા અને પ્રક્રિયાની ચોકસાઈ અને સુસંગતતાને સુનિશ્ચિત કરવા માટે ઉપયોગ કરી શકાય છે.
2. ઓપ્ટોઈલેક્ટ્રોનિક્સ: તેની ઉત્તમ થર્મલ વાહકતા અને ઉચ્ચ તાપમાન પ્રતિકારને કારણે, આર.ટી.પી.CVD SiC રિંગ્સલેસર, ફાઈબર ઓપ્ટિક કોમ્યુનિકેશન સાધનો અને ઓપ્ટિકલ ઘટકો માટે સપોર્ટ અને હીટ ડિસીપેશન સામગ્રી તરીકે ઉપયોગ કરી શકાય છે.
3. પ્રિસિઝન મશીનરી: RTP CVD SiC રિંગ્સનો ઉપયોગ ઉચ્ચ તાપમાન અને કાટ લાગતા વાતાવરણમાં, જેમ કે ઉચ્ચ તાપમાનની ભઠ્ઠીઓ, વેક્યૂમ ઉપકરણો અને રાસાયણિક રિએક્ટરમાં ચોકસાઇનાં સાધનો અને સાધનો માટે કરી શકાય છે.
4. રાસાયણિક ઉદ્યોગ: તેના કાટ પ્રતિકાર અને રાસાયણિક સ્થિરતાને લીધે, RTP CVD SiC રિંગ્સનો ઉપયોગ કન્ટેનર, પાઇપ અને રિએક્ટરમાં રાસાયણિક પ્રતિક્રિયાઓ અને ઉત્પ્રેરક પ્રક્રિયાઓમાં થઈ શકે છે.
Epi સિસ્ટમ
RTP સિસ્ટમ
સીવીડી સિસ્ટમ
ઉત્પાદન કામગીરી:
1. 28nm નીચેની પ્રક્રિયાને મળો
2. સુપર કાટ પ્રતિકાર
3. સુપર સ્વચ્છ કામગીરી
4. સુપર કઠિનતા
5. ઉચ્ચ ઘનતા
6. ઉચ્ચ તાપમાન પ્રતિકાર
7. પ્રતિકાર પહેરો
ઉત્પાદન એપ્લિકેશન:
સિલિકોન કાર્બાઇડ સામગ્રીમાં ઉચ્ચ કઠિનતા, વસ્ત્રો પ્રતિકાર, કાટ પ્રતિકાર અને ઉચ્ચ તાપમાન સ્થિરતાની લાક્ષણિકતાઓ છે. ઉત્કૃષ્ટ વ્યાપક પ્રદર્શન સાથેના ઉત્પાદનોનો ઉપયોગ ડ્રાય એચિંગ અને TF/પ્રસાર પ્રક્રિયાઓમાં વ્યાપકપણે થાય છે.
ઉત્પાદન કામગીરી:
1. 28nm નીચેની પ્રક્રિયાને મળો
2. સુપર કાટ પ્રતિકાર
3. સુપર સ્વચ્છ કામગીરી
4. સુપર કઠિનતા
5. ઉચ્ચ ઘનતા
6. ઉચ્ચ તાપમાન પ્રતિકાર
7. પ્રતિકાર પહેરો
સંયુક્ત પ્રક્રિયા વિકાસ:
ગ્રેફાઇટ + Sic કોટિંગ
સોલિડ સીવીડી sic
સિન્ટર્ડ SiC+CVD
SicSintered SiC
બહુવિધ ઉત્પાદન પ્રકાર વિકાસ:
રીંગ
ટેબલ
સસેપ્ટર
શાવર હેડ
